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Applications of plasma processes to VLSI technology

フォーマット:: 図書
責任表示:: edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim
言語:: 英語
出版情報:: New York : Wiley, c1985
形態:: xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm
著者名:: 菅野, 卓雄(1931-) <DA00071803>
書誌ID:: BA0724373X
ISBN:: 9780471869603 [0471869600]

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その他の標題:	Handōtai purazuma purosesu gijutsu
主題:	Integrated circuits--Very large scale integration--Design and construction; Plasma etching; Semiconductors--Etching; Vapor-plating
分類・件名:	LCC : TK7871.85 DDC : 621.381/73 LCSH : Semiconductors -- Etching LCSH : Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction LCSH : Plasma etching LCSH : Vapor-plating
LCCN:	85003255
注記:	Translation of: Handōtai purazuma purosesu gijutsu "A Wiley-Interscience publication." Bibliography: p. 369-389 Includes index
TTLL:	eng
著者名ヨミ:	スガノ, タクオ

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