Plasma etching : an introduction

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フォーマット:

図書

責任表示:

edited by Dennis M. Manos, Daniel L. Flamm

言語:

英語

出版情報:

Boston ; Tokyo : Academic Press, c1989

形態:

xii, 476 p. : ill. ; 24 cm

著者名:

シリーズ名:

Plasma-materials interactions <BA0662742X>

書誌ID:

BA07363130

ISBN:

9780124693708 [0124693709]

子書誌情報

所蔵情報

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詳細

主題:	Plasma etching
分類・件名:	LCC : TA2020 DDC : 621.044 NDC8 : 427.6 LCSH : Plasma etching
LCCN:	87037419
注記:	Includes bibliographical references and index
TTLL:	eng

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1 図書 Glow discharge processes : sputtering and plasma etching Chapman, Brian N. Wiley	7 図書 Discharge parameters and chemistry Auciello, Orlando, 1945-, Flamm, Daniel L. Academic Press
2 図書 Principles of plasma discharges and materials processing Lieberman, M. A. (Michael A.), Lichtenberg, Allan J Wiley-Interscience	8 図書 Plasma turbulence Kadomtsev, Boris Borisovich, Ronson, L. C., Rusbridge, M. G. Academic Press
3 図書 Principles of plasma discharges and materials processing Lieberman, M. A. (Michael A.), Lichtenberg, Allan J Wiley	9 図書 Digital logic and computer design Mano, M. Morris, 1927- Prentice-Hall
4 図書 Applications of plasma processes to VLSI technology 菅野, 卓雄(1931-) Wiley	10 図書 Modern signal processing Rockmore, Daniel Nahum, Healy, Dennis M. Jr. Cambridge University Press
5 図書 Plasma sources for thin film deposition and etching Francombe, Maurice H., Vossen, John L. Academic Press	11 電子ブック Influence of pulse length on electrothermal plasma jet impingement flow Chang, L.-M.
6 図書 Surface analysis and interactions Auciello, Orlando, 1945-, Flamm, Daniel L. Academic Press	12 図書 An introduction to the regenerative method for simulation analysis Crane, Daniel M., Lemoine, A. J. Springer-Verlag