Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique

フォーマット:

その他

責任表示:

Atif, Mossad Ali

言語:

英語

出版情報:

金沢大学, 2002-09-01

著者名:

Atif, Mossad Ali  

掲載情報:

博士学位論文要旨　論文内容の要旨および論文審査結果の要旨／金沢大学大学院自然科学研究科

巻:

平成14年9月

開始ページ:

60

終了ページ:

63

バージョン:

publisher

概要:

取得学位：博士(学術)，学位授与番号：博甲第436号，学位授与年月日：平成13年9月28日,学位授与年：2001

URL:

http://hdl.handle.net/2297/16415