著者典拠情報

標目形：
西澤, 潤一(1926-2018)||ニシザワ, ジュンイチ
属性：
Personal
場所：
仙台
日付：
1926
から見よ参照形：
西沢, 潤一||ニシザワ, ジュンイチ
Nishizawa, Jun'ichi
Nisizawa, Zyun'iti
Nishizawa, Junichi
Nisizawa, Zyuniti
注記：
東北大学名誉教授, 日本学士院会員
財団法人半導体研究振興会常務理事, 1979
出生地の追加は共編書「日本の半導体開発」(1993,工業調査会)のカバーの記述より。
闘う独創技術 / 西沢潤一, 猿賀俊文著(日刊工業新聞社, 1986.8)
EDSRC:人類は滅亡に向かっている : 21世紀への私の提案 / 西沢潤一著 (潮出版社, 1993.12) の奥付によってSFフィールド (Nishizawa, Junichi) を追加
著者典拠ID：
DA00235944


1.

図書
図書
1. Semiconductor technologies
editor, J. Nishizawa
出版情報: Tokyo : OHM , Amsterdam : North-Holland, c1981-
シリーズ名: Japan annual reviews in electronics, computers & telecommunications ; 8, 13, 19
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2.

図書
図書
2. 半導体のおはなし
西澤潤一著
出版情報: 東京 : 日本規格協会, 1990.3
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3.

図書
図書
3. 独創は闘いにあり
西沢潤一著
出版情報: 東京 : プレジデント社, 1986.3
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4.

図書
図書
4. LSIの将来技術
西澤潤一編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1982.5
シリーズ名: 半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 18巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 5
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5.

図書
図書
5. プロセスの低温化
西澤潤一編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1985.3
シリーズ名: 半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8
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6.

図書
図書
6. プロセスの基礎
西沢潤一編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1983.8
シリーズ名: 半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 7
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7.

図書
図書
7. 創造性を育てる
永井道雄, 西澤潤一[著]
出版情報: 東京 : 岩波書店, 1987.5
シリーズ名: 岩波ブックレット ; no.87
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8.

図書
図書
8. 超LSI回路とプロセス
西澤潤一編
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1986.8
シリーズ名: 半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 24巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 10
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9.

図書
図書
9. 半導体材料学
西沢潤一, 宮本信雄著
出版情報: 東京 : 近代科学社, 1968.11
シリーズ名: 東北大学基礎電子工学入門講座 ; 第7巻
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10.

図書
図書
10. 半導体装置
西沢潤一著
出版情報: 東京 : 近代科学社, 1961.3
シリーズ名: 東北大学基礎電子工学入門講座 ; 第12巻
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